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南山區(qū)2024年度促進(jìn)集成電路產(chǎn)業(yè)高質(zhì)量發(fā)展支持項(xiàng)目

發(fā)布時(shí)間:2025-07-21 點(diǎn)擊:8
政策內(nèi)容
(一)核心設(shè)備購買支持。
對集成電路設(shè)計(jì)企業(yè)購買核心設(shè)備(實(shí)際交易價(jià)格20萬元以上),按照購置額最高20%給予補(bǔ)貼,每家企業(yè)每年最高補(bǔ)貼100萬。
(二)EDA/IP購買支持。
支持集成電路企業(yè)購買IP(來源于IP提供商、EDA供應(yīng)商或者代工廠IP模塊)、EDA工具開展芯片研發(fā),對上一年度購買IP、EDA設(shè)計(jì)工具的企業(yè),按照支付費(fèi)用最高60%給予補(bǔ)貼,每家企業(yè)每年分別給予購買IP、EDA設(shè)計(jì)工具補(bǔ)貼最高200萬元。
(三) 流片服務(wù)支持。
對集成電路企業(yè)首次工程流片進(jìn)行支持,按照上一年度首次工程流片費(fèi)用(含掩模版制作、流片等)最高10%給予補(bǔ)貼,大于28nm(含)的工藝節(jié)點(diǎn),每家企業(yè)每年最高補(bǔ)貼150萬元, 7nm(不含)到28nm(不含)節(jié)點(diǎn),每家企業(yè)每年最高補(bǔ)貼300萬元,小于7nm(含)節(jié)點(diǎn),每家企業(yè)每年最高補(bǔ)貼500萬元;對使用多項(xiàng)目晶圓(MPW)流片進(jìn)行研發(fā)的企業(yè),按照上一年度MPW流片費(fèi)用最高10%給予補(bǔ)貼,大于28nm(含)的工藝節(jié)點(diǎn),每家企業(yè)每年最高補(bǔ)貼100萬元,7nm(不含)到28nm(不含)節(jié)點(diǎn),每家企業(yè)每年最高補(bǔ)貼200萬元,小于7nm(含)以下節(jié)點(diǎn),每家企業(yè)每年最高補(bǔ)貼300萬元。
(四)工程樣片測試驗(yàn)證支持。
對開展工程樣片的功能、性能、可靠性、兼容性、失效分析等方面的測試驗(yàn)證及相關(guān)認(rèn)證的集成電路設(shè)計(jì)企業(yè),按照實(shí)際發(fā)生費(fèi)用最高30%給予資助,每家企業(yè)每年最高資助100萬元。
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